購物車(0)
三維微結構顯微干涉檢測方法
關鍵詞：三維形貌 微結構 干涉檢測 顯微鏡
摘要：三維微結構在光陷阱、隱身與光場調控、超高壓密封、人工生物材料等領域具有重要的應用價值。三維微結構的加工制造方法,包括激光直寫、光刻、電子與化學蝕刻等先進制造方法發展迅速,其檢測儀器有掃描電鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、激光共焦顯微鏡、低相干干涉顯微鏡,但這些檢測儀器一直受到西方發達國家壟斷。闡述國內在低相干干涉顯微測量方法方面的研究進展,包括干涉顯微鏡的光學設計方法、裝校流程、寬譜低相干干涉圖處理與微結構形貌復原方法,并給出了不確定度評定結果。結果表明:儀器三維形貌合成不確定度為0.9 nm,最大微結構軸向分辨率為0.13 nm。
電光與控制雜志要求:
{1}根據《中華人民共和國著作權法》，并結合本刊實際情況，凡網上投稿成功后3個月內未接到稿件處理通知者，系仍在審閱中。作者如欲投他刊，請先與本刊聯系，切勿一稿兩投。一旦發現一稿兩投，將立即退稿。
{2}正文按“前言、資料(對象)與方法、結果、討論”的順序書寫，為一級標題；以下各級小標題按照：一、(一)、１．安排序號。
{3}請勿一稿多投。本刊確認收稿后會及時與作者聯系，未錄用稿件請自行處理。
{4}文中一級標題、二級標題、三級標題、四級標題的序號用“一、……”“1.……”“（1）……”標示。盡量不使用三級或三級以上的標題。
{5}第一作者及通訊作者（一般為導師）簡介（包括姓名、性別、職稱、出生年月、所獲學位、目前主要從事的工作和研究方向）。
{6}參考文獻限作者親自閱讀已發表的近五年主要文獻。按文內引用先后順序列于文末，并在文內引用處右上角以[ ]號（角注）注明序號。
{7}文中注釋一律采用頁下腳注，用阿拉伯數字編序，注明作者、書（或文章）名、出版單位（或期刊名）、出版年份（或第＊期）、頁碼（請遵循GB/T7714－2015《中華人民共和國國家標準信息與文獻參考文獻著錄規則》，2015年）。引用古籍稿本、抄本、刻本、影印本的，只注版本卷次，不注頁碼。
{8}基金項目：名稱及編號；作者簡介：第一作者姓名（出生年— ）、性別、職稱或學位、主要從事專業及郵箱等，在首頁以頁下注形式寫明。
{9}論文須附中、英文摘要；中文摘要200—300字，英文摘要150—200詞。另請擇出能反映全文主要內容的關鍵詞2—4個。
{10}文章中的圖表應具有代表性，表格使用三線表；圖片稿為TIF或JPG格式，像素不小于1M；計量單位請以國務院頒布的《中華人民共和國法定計量單位》為準。
注：因版權方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
