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含咔唑基吡嗪衍生物的二階NLO性質研究
任冬梅; 黃醒; 趙岷 渤海大學化學化工學院; 遼寧錦州121000
關鍵詞：密度泛函理論 吡嗪 咔唑 二階nlo性質 電子光譜
摘要：采用B3LYP方法,在6-311G(d,p)水平上研究了若干含咔唑基吡嗪衍生物的二階NLO性質和電子光譜.結果表明,分子的二階NLO系數(βtot)與極化率(α)成正比關系,并且取代基吸電子強度的增加以及芳香雜環的引入可以明顯提高分子的二階NLO活性.當以丙基為供體,三氰基苯乙烯基為受體,并用吡咯環代替苯環時,顯示了較大的NLO活性和良好的透光性,研究體系在NLO材料領域有較好的應用前景.
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