購物車(0)
藍寶石磁流變化學機械拋光工藝研究
陽志強; 李宏; 郭忠達 西安工業大學光電工程學院; 西安710021
關鍵詞：流變拋光 藍寶石 化學機械拋光 表面粗糙度 去除率
摘要：針對超光滑平面藍寶石襯底片存在亞表層損傷的問題,文中利用磁流變拋光技術進行藍寶石襯底片拋光以滿足現有生產需要,研究了磁流變拋光中拋光壓力、拋光盤轉速、工件盤轉速及拋光液溫度等工藝參數對C向藍寶石襯底片表面粗糙度和去除率的影響。采用正交實驗方法獲得了一組最佳工藝參數為:拋光壓力為25kg,拋光盤轉速為40r·min^-1,工件盤轉速為20r·min^-1,拋光液溫度為38℃。研究結果表明:藍寶石拋光后最優表面粗糙度Ra為0.31nm,去除率達到2.68μm·h^-1。
西安工業大學學報雜志要求:
{1}作者簡介包括姓名、單位、職稱職務以及研究領域。
{2}文稿需具有先進性、科學性、邏輯性，論點明確，資料可靠，文字精煉，層次清楚，數據準確。
{3}標題，序數后用實心黑點，如“1.”“2.”“3.”，左側空二字符。
{4}參考文獻書寫格式為：作者.文題.刊名年份；年（期）：起始頁.網上參考材料序號.作者.文題網址（至子－－欄目）.上傳年月。
{5}摘要應在200字以內，摘要中不能使用評論性的詞語，摘要的基本要素包括研究目的、方法、結果、結論，也可寫明具有情報價值的其他重要信息。
注：因版權方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
